英特尔首批两台EUV 光刻机投产，单季 3 万片晶圆产量惊人最新资讯

英特尔首批两台EUV 光刻机投产，单季 3 万片晶圆产量惊人

by: admin 行业资讯 0 2025-03-07 15:02:13

2 月 26 日消息，英特尔公司当地时间周一宣布，其工厂已启用 ASML 公司首批两台先进光刻机进行生产。这一消息瞬间点燃行业热情，让英特尔再次成为全球半导体领域关注的焦点。

产能与可靠性双突破，优势显著

在加利福尼亚州圣何塞的会议上，英特尔高级首席工程师史蒂夫・卡森（Steve Carson）披露了惊艳数据：凭借 ASML 的高数值孔径（NA）光刻机，英特尔单季度成功产出 30,000 片晶圆。这些晶圆是芯片制造的关键基础，每片能制造出数千颗芯片。尤为突出的是，新型光刻机的可靠性约为旧款机型的两倍。卡森强调：“稳定的晶圆生产速率，为整个平台赋予了无可比拟的优势。”

昔日困境重重，今朝全力突围

回顾往昔，英特尔在上一代极紫外（EUV）光刻机的应用上落后于竞争对手。耗费七年时间才将旧款光刻机全面投入生产，期间的可靠性问题更是使其痛失对台积电的领先地位。但如今，新型光刻机的投产成为英特尔扭转局势的关键契机。

技术革新，降本增效明显

新型 ASML 光刻机通过独特的光束在芯片上打印特征，展现出强大的技术革新能力。它能以更少的曝光次数完成与旧款机器相同的工作，大幅节省时间和成本。英特尔工厂的早期数据显示，高 NA 光刻机仅需一次曝光和 “个位数” 的处理步骤，就能完成旧款机器需要三次曝光和约 40 个处理步骤的任务。这一技术突破，无疑极大地提升了英特尔在芯片制造领域的竞争力。

布局未来，技术蓝图初现

英特尔计划借助高 NA 光刻机大力推动其 18A 制造技术的研发，该技术预计今年晚些时候将与新一代 PC 芯片一同大规模生产。英特尔还打算在下一代制造技术 14A 中全面应用高 NA 光刻机，虽然 14A 技术大规模生产的日期尚未公布，但已让行业对英特尔的未来充满遐想。

亿配芯城（ICgoodFind）认为，英特尔引入 ASML 高 NA EUV 光刻机，是其在半导体领域的关键战略布局。这不仅有望重塑英特尔在行业中的竞争地位，也将推动整个芯片制造技术的发展与革新。亿配芯城（ICgoodFind）将持续关注英特尔及行业动态，凭借自身在电子元器件领域的专业优势，为客户提供优质的产品和服务，助力行业在技术浪潮中不断前行。

文章标签：英特尔，光刻机，晶圆