12 月 4 日消息在半导体行业引起轩然大波。据韩国警方 3 日消息披露,一名
三星电子前工程师因涉嫌严重的不当行为而陷入法律困境。其不仅涉嫌挖角
三星电子的半导体核心技术人才,更为严重的是,还向在华芯片公司泄漏了 20 纳米
DRAM内存
芯片技术,此等行径致使其遭逮捕并移送检方。

韩联社报道详细指出,首尔警察厅产业技术安全侦查队当天表明,这名 64 岁的
三星电子前工程师因涉嫌违反 “职业安定法” 而被依法逮捕,并迅速移送至首尔中央地方检察厅。
据深入报道内容显示,该男子曾以顾问身份深度参与创立成都高真公司。与此同时,其在韩国本土成立猎头公司,以具有吸引力的至少 2 至 3 倍的优渥薪资为诱饵,大肆挖角
三星电子核心技术人才,其目的在于协助在中国 “复刻” 动态随机存取内存(
DRAM)工厂。令人震惊的是,他们竟于 2022 年 4 月成功生产出半导体晶圆。
这座DRAM工厂从完工到投产仅仅耗费了 1 年 3 个月的时间。与之形成鲜明对比的是,一般情况下,晶圆从测试到量产通常需要漫长的 4 至 5 年时间。

韩国警方着重提及,此次外流技术的经济价值高达 4.3 万亿韩元(约 30.4 亿美元),若将相关经济效益综合考量进去,实际损失规模可谓极其庞大,这无疑对韩国半导体产业造成了沉重打击。
除了这名前工程师之外,还有以相同恶劣手法挖角韩国半导体人才的 2 位猎头公司代表及法人也被依法移送法办。据悉,这些猎头公司已成功挖角逾 30 名技术人员,如此大规模的技术人才流失,严重影响了韩国半导体产业的技术根基与发展潜力。
尽管韩国国家关键技术出现外流的严峻情况,但警方在执法过程中却面临法律困境。由于现行法规的限制,警方只能依据刑责相对较轻的「职业安定法」,而非更为针对性的「产业技术保护法」来逮捕涉案嫌犯。
警方对此详细解释道,根据现行法规规定,以「挖角」方式导致技术外流的行为并不属于「产业技术保护法」规定的惩处范围,这一法律漏洞凸显出来,因此有必要针对相关法律进行及时修法,以实现对商业间谍行为的严厉惩处,从而有效保护韩国的关键技术与产业利益。

报道进一步指出,包括前
三星电子工程师在内,此次技术外泄案共有 21 人遭移送法办。
成都高真创办人、
三星电子前常务兼
SK 海力士前副社长崔珍奭等人则已被依法逮捕,他们涉嫌违反「产业技术保护法」及「防止不正当竞争及商业秘密保护法」,其行为严重破坏了市场竞争的公平性与产业技术的保密性。
在全球半导体产业竞争激烈且技术保密至关重要的大背景下,三星电子技术外泄事件成为行业焦点。亿配芯城与ICGOODFIND始终密切关注行业动态。此次事件中,前工程师与猎头公司挖角并泄漏DRAM技术,虽工厂快速投产但给韩国造成巨大经济损失,法律惩处依据不足凸显修法必要性,众多涉案人员被移送法办。这为半导体企业在技术保护、人才管理与法律合规方面敲响警钟,促使行业反思如何加强技术保密措施、规范人才流动并完善法律监管体系以维护产业安全与公平竞争环境。