10月17日消息，近日光刻机大厂佳能（Canon）公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的半导体芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm半导体芯片。
最近，光刻机大厂佳能（Canon）公司近日通过新闻稿宣布，其已经开始销售基于“纳米印刷”（Nanoprinted lithography）技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，这套生产设备的工作原理和行业巨头 ASML 的光刻机不同，利用类似印刷技术，可直接通过压印形成图案。这套设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于EUV设备生产的5nm工艺芯片。
近年来，佳能一直在积极增产光刻设备，以满足不断增长的需求。佳能的光刻设备主要应用于制造汽车控制等的半导体产品。为了应对需求的不断增长，佳能还计划在日本栃木县宇都宫市新建半导体设备工厂，主要增产光刻设备，建成后预计产能将提高2倍。
