11月7日消息，据俄罗斯媒体报道，俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak宣布，俄罗斯正在研发生产芯片的微影光刻机，并计划在2024年开始生产350纳米微影光刻机，2026年启动用于生产130纳米制程芯片的微影光刻机。这项计划的实施将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
Vasily Shpak指出，当前全球只有两家公司生产此类设备，包括日本NIKON和荷兰ASML。然而，对于半导体的生产而言，微影光刻机是相当重要的设备。他表示，如果没有半导体主权，国家就缺乏技术主权，这在国防安全和政治主权方面会让国家变得非常脆弱。
由于外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的微影光刻机，俄罗斯正在匆忙开发自己的生产设备。Vasily Shpak表示，2024年将拨款2,114亿卢布（约23亿美元）用于国内电子产品的开发。
俄罗斯决定开发350纳米到65纳米微影光刻机的原因在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占市场的60%。因此，这项设备在全球市场的需求量很大，并且将在至少10年内有持续的需求。
当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak表示，所有的问题都不是问题，因为这关系到俄罗斯拥有哪些机会以及所设定的目标。他强调，俄罗斯拥有优秀的科学家和工程师团队，并相信他们能够成功开发出自己的微影光刻机。
此次宣布的计划对于俄罗斯来说具有重要意义。随着全球半导体市场的不断扩大和技术进步的不断加速，掌握先进的芯片生产技术对于国家的科技和经济实力都具有重要影响。微影光刻机作为制造芯片的关键设备，其研发和生产能力对于俄罗斯来说是一项重要的技术突破。通过自主研发和生产微影光刻机，俄罗斯将能够提高国内芯片生产的自主性和可控性，减少对外国技术的依赖。
此外，微影光刻机的研发和生产还将带动俄罗斯电子产业的发展。随着半导体技术的不断进步，电子产业已经成为全球范围内的重要支柱产业之一。掌握先进的芯片生产技术将有助于俄罗斯在电子产业中取得更好的发展，并提高国内相关产业的技术水平和竞争力。
然而，计划的实施也将面临一些挑战。首先，微影光刻机的研发和生产是一项技术难度较大的工作，需要具备先进的科技实力和人才队伍。俄罗斯需要加强国内科技人才的培养和引进，并提高科研机构的研发能力。其次，微影光刻机的生产需要大量的资金投入，包括设备采购、生产线建设、人员培训等方面。俄罗斯需要制定相应的政策和措施来吸引投资和支持企业的发展。
总的来说，俄罗斯研发和生产微影光刻机的计划具有重要的意义和价值。通过掌握先进的芯片生产技术，提高国内科技水平和经济实力，俄罗斯将能够在全球半导体市场中取得更好的发展并提高国家的技术主权和政治地位。
