10 月 18 日，韩国首尔高等法院刑事第七庭（审判长李在权、宋美京、金瑟琪）对 SK 海力士合作公司副社长 A 先生作出判决。A 先生被判处 1 年有期徒刑，并因违反《工业技术泄密防止及保护法》被起诉，并入狱 6 个月。这一刑罚比一审判处的有期徒刑一年更为严厉。
以同样罪名受审的三名员工，一审被判处缓刑，二审则增至 1 年至 1 年 6 个月有期徒刑。合作企业被判处 10 亿韩元（519 万元人民币）的罚款，高于一审 4 亿韩元的罚款。
与一审不同的是，上诉法院认定他们向其他公司提供与 SK 海力士共同开发的技术信息有罪。法院裁定：“如果不仅向第三方秘密泄露 SK 海力士提供的信息，而且还向第三方秘密泄露在共同开发过程中开发的大量衍生技术，则应受到禁止，或者至少应事先获得同意。”
法院指出，“被告人的犯罪行为不仅对受害企业，而且对韩国整个行业都产生了很大的影响，特别是 A 副总作为最终决策者，指挥了犯罪行为，深陷其中。”
A 某等人涉嫌于 2018 年 8 月至 6 月期间，向一家半导体公司泄露与 SK 海力士合作时学到的 HKMG 半导体制造技术、清洗配方等半导体相关核心技术、尖端技术和商业秘密。HKMG 是一种防止漏电流并提高电容的新一代工艺，是一种可以在提高 DRAM 半导体速度的同时降低功耗的新技术。
他们还涉嫌通过三星电子半导体设备子公司 SEMES 的前员工秘密获取先进的半导体技术和商业机密，然后开发设备出口到国外。
此次泄密事件引起了韩国半导体行业的高度关注，也凸显了技术保护的重要性。在全球半导体竞争日益激烈的背景下，技术保密对于企业和国家的竞争力至关重要。
亿配芯城（ICgoodFind）总结：SK 海力士合作公司泄密案的二审判决，体现了对技术保护的高度重视。在电子行业，技术创新是企业发展的核心竞争力，而技术保密则是保障创新成果的重要手段。亿配芯城（ICgoodFind）将始终坚守诚信经营原则，积极推动电子行业的健康发展。
